点击图片查看大图
|
金属硅靶材 冠 离子束溅射用硅靶材 硅 圆形圆片硅靶材 实验用硅靶材 金 磁控溅射用硅靶材 低公差硅靶材 平面硅靶材 利 |
||
|
物理性质 |
颜色 |
钢灰色 |
|
密度 |
|
|
|
熔点 |
|
|
|
技术指标 |
纯度 |
99.999% |
|
相对致密度 |
>99% |
|
|
切面平整度 |
3.2Ra |
|
|
公差 |
± |
|
|
晶粒度 |
均匀 |
|
|
材质 |
冠金利-Si |
|
|
品牌 |
冠金利-硅 |
|
|
产地 |
北京市 |
|
|
产品规格 |
尺寸01：直径<360mm 厚度>1mm （圆片/圆台/圆棒） |
|
|
尺寸02：长度<300mm 宽度<300mm 厚度>1mm 矩形/片材/台阶状(可拼接） |
||
|
尺寸03：外直径<360mm 内直径>1mm 壁度>1mm 长度>1mm（管材/圆环/旋转靶材） |
||
|
尺寸04：:根据用户需要进行定制，来样加工，来图加工 |
||
|
最少起订量 |
1片，量大优惠 |
|
|
供货能力 |
同批次，同材质，持续可靠供应； |
|
|
交货期 |
单片材料1周内发货，批量材料15天-20天内发货（工作日） |
|
|
制作工艺 |
真空磁悬浮熔炼 ，浇铸成锭，热机械处理和精密机械加工 |
|
|
适用仪器 |
各类型号磁控溅射设备等 |
|
|
产品用途 |
工业级镀膜，实验或研究级别用硅靶材，电子，光电，军用，装饰，功能薄膜等 |
|
|
产品优点 |
质量可靠，价格优惠 |
|
|
真空熔炼，提纯制备，纯度高，杂质少 |
||
|
轧制致密，氧化少，成型可塑 |
||
|
相对致密度高，晶粒均匀等轴，一致性高 |
||
|
产品附件 |
正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单/正规发票 |
|
|
包装方式 |
真空包装/真空中性包装/特殊包装外加固包装 |
|
|
运输方式 |
国内快递承运（顺丰，申通，EMS，德邦---） |
|
高纯硅靶材
